Motorola mit Technologie für ultrakleine Chips

Die Motorola Inc. gab gestern bekannt, eine Technologie entwickelt zu haben, die die Massenproduktion von Computerchips mit miskrosopisch kleinen Schaltkreisen ermöglicht. Diese sollen mehr als 50 Prozent dichter bepackbar sein als herkömmliche. Motorola habe Photomasken bzw. Material entwickelt, das angwendet auf Silikonplatten, das Implementiern von integrierten Schaltungen kleiner als 100 Nanometer in der Breite ermöglicht. Der jetzige angestrebte Industriestandard war 157 Nanometer. Die Chips werden durch einen Prozess hergestellt, der gemeinhin als Photolithographie bekannt ist. Die neuen Photomasken wurden für die Verwendung von extrem ultravioltter (EUV) Photolithographie entwickelt, die durch die Nutzung einer kleineren Wellenlänge des Lichts eine präzisere und detailgenauere Bearbeitung ermöglicht. Im Laufe des nächsten Jahres will Motorola mit Hilfe der Photomasken und einem EUV-Prototyp beginnen, kleinere Features auf die integrierten Schaltkreise zu drucken. Die Produktion der EUV-Technologie wird nicht vor 2005 erwartet.